檢索結果:共2筆資料 檢索策略: "周振嘉".ccommittee (精準) and ckeyword.raw="電漿氧化"
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本研究利用共濺鍍系統沉積出TaN(Cu)的混合薄膜,並使用電漿氧化的方式直接氧化下電極製作出中間電阻層,之後再沉積出TaN薄膜當作上電極,製備出TaN/Cu-TaOx/TaN(Cu)的MIM三層結構…
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本研究以Al與Al(Cu 5wt%)靶材濺鍍沉積下電極層,以RF與MW電漿氧化的方式成長電阻層,上電極皆以Al濺鍍,製成Al/AlOx/Al、Al/AlOx+CuOx/Al(Cu 5wt%)三層結構…